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电子束光刻技术

电子束光刻是微型技术加工发展的关键技术，在纳米制造领域具有不可替代的作用。电子束光刻主要用于刻画微小的电路图，通常以纳米为单位。电子束光刻不需要掩模，钟将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。

为了将电子束光刻技术应用于纳米尺度微小结构的加工和集成电路的光刻，必须解决几个关键技术问题:电子束高精度扫描成像曝光效率低；电子在抗蚀剂和基片中的散射和背射现象引起的邻近效应；实现纳米尺度加工中的电子抗蚀剂、电子束曝光、显影和刻蚀等工艺技术问题。

实践证明，应用电子束邻近校正技术、电子束曝光与光学曝光系统匹配、混合光刻技术和抗蚀剂曝光工艺优化技术是提高电子束光刻系统实际光刻分辨率的非常有效的途径。电子束光刻最重要的是金属化剥离。第一步是扫描光刻胶表面所需的图案。第二部是将曝光的图形进行显影，去除未曝光的部分。第三部在形成的图形上沉淀金属，第四部将光刻胶去除，在金属剥离的过程中，关键在于光刻工艺的胶型控制。使用厚胶，有利于胶水的渗透，形成清晰的形状。

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